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Polymer blends Critical phenomena for Lithographic patterning 平裝版
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商品特色
- 探索高分子共混物在光刻圖案中的應用，深入了解其對材料科學的影響。
- 本書詳細介紹臨界現象，助您掌握高分子材料的相分離行為與溫度控制。
- 研究高分子共混物的關鍵現象，為光刻技術提供創新思路與解決方案。
商品概述
本書《高分子共混物：光刻圖案的臨界現象》深入探討了高分子材料在光刻技術中的應用。它詳細闡述了溫度、旋節線和雙節線等關鍵概念，幫助讀者理解高分子共混物的相分離行為。本書內容涵蓋單相和體積分數等重要參數，為研究人員和工程師提供了寶貴的參考資料。作者Kung Linliu博士以其專業知識，為讀者呈現了高分子共混物在光刻領域的最新研究成果。無論您是材料科學的研究者還是光刻技術的從業者，本書都將為您帶來深刻的啟發。
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